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　　甲烷雷射于1964年首度利用其可見光為10.6μm。即使這是一類十分有工作效率的雷射，做為商業模型而言其切換工作效率達至10%，因此甲烷雷射廣泛用作雷射切割，焊接，鉆頭

　　和表面處置。做為商業應用雷射可達45千瓦，這是目前最強的化學物質處置雷射。

　　1、運轉基本原理

　　甲烷雷射是一類大分子雷射。主要的化學物質是甲烷大分子。它能表現多種不同熱量狀況這要視其震動和旋轉的型態而定?；镜臒崃烤W狀見圖1。甲烷里的混合氣體體是由于電子

釋放而造成的低壓氣體（一般而言30-50托）形成的激光（磁層）。如麥克斯韋-Fossat原產定律所說，在激光里，大分子呈現出多種不同興奮狀況。一些會呈現出高能階（00o1）其表現為不等距轉動狀況。當與空HANDBOOKS碰撞或者大自然散發出，此種大分子也會碰巧的丟失熱量。通過大自然散發出此種高能狀況會下降到等距轉動型態(10o0)以及熾熱可能散播到任何方向的正電子（一類可見光10.6μm的雷射）。碰巧的，此種正電子的一類會沿著徑向的腔向下散播也將在產生共鳴竹色轉動。

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　　圖1簡單的甲烷大分子熱量水準圖

大體上，甲烷雷射的工作化學物質是由甲烷、氦、氫氣所組成的混合物。氫氣做為緩沖器氣體以及它的大分子產生共鳴地傳達刺激熱量給甲烷大分子。即使胡亞捷水準（01110）是瓶頸，氦的作用是做為熱壑來傳達熱量給水準（01110）給氦原子。

　　2、甲烷雷射的種類

　　空氣冷卻被拒的方式對雷射控制系統設計有很大的影響。原則上，有兩種可能的方式。第一類方式是如前所述自動處置大自然擴散熱氣到管墻，運轉基本原理就是密閉和慢TE10G雷射。第二種是如前所述氣體強迫環流，其運轉基本原理就是快TE10G雷射。大體上，主要有五種甲烷雷射：

　　密閉式或無INS13ZD

　　慢TE10G

　　快TE10G

　　快速縱向流

　　縱向鞭策大氣（TEA）

密閉或無INS13ZD甲烷雷射一般而言以用作雷射偏移雷射做標記。它的混合氣體體完全被封住。此種雷射束的質量十分好。所以在大多數情況下整個混合氣體體能換新舊的能重新油庫因此容易保養。這樣就無需使用固定式的氣體供給控制系統。只需要在雷射頭做較少的連接。因此它既密切且小巧。但是其熱量輸出較高（一般而言少于200瓦）。

　　TEA甲烷雷射一般而言應用作護盾制作。只能在波形形勢下操作。氣流低且氣壓高。其鞭策電流大概在一萬伏。此種雷射束熱量原產在相較的大區域是統一的。它的最高熱量最高能達至2瓦所以其波形寬度十分小。盡管如此，由于多狀況運轉因此此種形式的雷射很難在小點上集中。

　　3、泵的電源供給

對于CW甲烷雷射而言，總體上說主要有三種給泵供電控制系統的方式。例如：交流電（DC）、高頻（HF）、微波（RF）。交流電供電控制系統設計最簡單。在高振幅供電控制系統式中電子在振幅20-50千安培之間交錯。相較交流電而言，高頻供電控制系統在大小上密切所以較高工作效率。微波供電控制系統中電子在振幅2至100GHz之間交錯。與交流電相比，其電流和工作效率都較高。

　　( 文章來源：互聯網 )

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